Die Justiergenauigkeit der Masken bei der Fotolithographie liegt in der Größenordnung der optischen Auflösung der Prozesse. Daher muss zum Beispiel die Innenlage von Kontakten in Leitbahnen eingehalten werden, um diese Toleranzen zulassen zu können.
Ein anderes Beispiel ist eine Mindestüberlappung beim Aufbau von Bauelementen in mehreren Schichten, die zur Sicherheit vorhanden sein muss.